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文献
J-GLOBAL ID：200902116796273836
整理番号：94A0139603
Soft x-ray production from laser produced plasmas for lithography applications.
SPITZER R C
(Lawrence Livermore National Lab., California)
,
KAUFFMAN R L
(Lawrence Livermore National Lab., California)
,
ORZECHOWSKI T
(Lawrence Livermore National Lab., California)
,
PHILLION D W
(Lawrence Livermore National Lab., California)
,
CERJAN C
(Lawrence Livermore National Lab., California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 11 号： 6 ページ： 2986-2989 発行年： 1993年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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