文献
J-GLOBAL ID:200902116906085615
整理番号:94A0129152
現像プロセス中のレジストパターンの崩壊の機構
Mechanism of Resist Pattern Collapse during Development Process.
著者 (3件):
TANAKA T
(SORTEC Corp., Ibaraki)
,
MORIGAMI M
(SORTEC Corp., Ibaraki)
,
ATODA N
(SORTEC Corp., Ibaraki)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
12B
ページ:
6059-6064
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)