文献
J-GLOBAL ID:200902117922441339
整理番号:00A0921766
パルスレーザ蒸着および反応性イオンビームスパッタリング技術によって成長させたBi3Fe5O12(001)エピタキシャル膜
Epitaxial Bi3Fe5O12(001) films grown by pulsed laser deposition and reactive ion beam sputtering techniques.
著者 (5件):
ADACHI N
(Royal Inst. Technol., Stockholm, SWE)
,
DENYSENKOV V P
(Royal Inst. Technol., Stockholm, SWE)
,
KHARTSEV S I
(Royal Inst. Technol., Stockholm, SWE)
,
GRISHIN A M
(Royal Inst. Technol., Stockholm, SWE)
,
OKUDA T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
88
号:
5
ページ:
2734-2739
発行年:
2000年09月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)