文献
J-GLOBAL ID:200902118022601957
整理番号:99A0390433
Nチャネル・エンハンスメント6H-SiC MOSFETの詳細な検討
Detailed Investigation of N-Channel Enhancement 6H-SiC MOSFET’s.
著者 (3件):
SCHOERNER R
(Siemens AG, Erlangen, DEU)
,
FRIEDRICHS P
(Siemens AG, Erlangen, DEU)
,
PETERS D
(Siemens AG, Erlangen, DEU)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
46
号:
3
ページ:
533-541
発行年:
1999年03月
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)