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文献
J-GLOBAL ID：200902118313713744
整理番号：97A0362799
酸化膜生成のために高純度オゾンジェットに曝露したSi(111)7×7の表面感受性第二高調波発生による分析
Analysis by Surface-sensitive Second Harmonic Generation of Si(111) 7×7 Exposed to High-purity Ozone Jet for Oxide Film Formation.
NAKAMURA K
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KUROKAWA A
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
ICHIMURA S
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
資料名：
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻： 25 号： 2 ページ： 88-93 発行年： 1997年02月
JST資料番号： E0709A ISSN： 0142-2421 CODEN： SIANDQ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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