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文献
J-GLOBAL ID:200902118338531861   整理番号:94A0124160

New chemistry in the design of chemically amplified positive resists.

著者 (7件):
ALLEN R D
(IBM Research Division, California)
LY Q P
(IBM Research Division, California)
WALLRAFF G M
(IBM Research Division, California)
LARSON C E
(IBM Research Division, California)
HINSBERG W D
(IBM Research Division, California)
CONLEY W F
(IBM Corp., NY)
MULLER K P
(IBM Corp., NY)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 1925  ページ: 246-256  発行年: 1993年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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