文献
J-GLOBAL ID:200902118338531861
整理番号:94A0124160
New chemistry in the design of chemically amplified positive resists.
著者 (7件):
ALLEN R D
(IBM Research Division, California)
,
LY Q P
(IBM Research Division, California)
,
WALLRAFF G M
(IBM Research Division, California)
,
LARSON C E
(IBM Research Division, California)
,
HINSBERG W D
(IBM Research Division, California)
,
CONLEY W F
(IBM Corp., NY)
,
MULLER K P
(IBM Corp., NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1925
ページ:
246-256
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)