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文献
J-GLOBAL ID：200902118407238322
整理番号：01A0886209
非共鳴近接場光CVD法によるナノメートルZnドットの製作
Fabrication of a nanometric Zn dot by nonresonant near-field optical chemical-vapor deposition.
KAWAZOE T
(Japan Sci. Technol. Corp., Tokyo, JPN)
,
YAMAMOTO Y
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
OHTSU M
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 79 号： 8 ページ： 1184-1186 発行年： 2001年08月20日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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