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文献
J-GLOBAL ID：200902118857315270
整理番号：01A0156978
エバネセント近接場光学リソグラフィーによりパターン形成した回折格子の解析的研究
Analytic study of gratings patterned by evanescent near field optical lithography.
MCNAB S J
(Univ. Canterbury, Christchurch, NZL)
,
BLAIKIE R J
(Univ. Canterbury, Christchurch, NZL)
,
ALKAISI M M
(Univ. Canterbury, Christchurch, NZL)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18 号： 6 ページ： 2900-2904 発行年： 2000年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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