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文献
J-GLOBAL ID:200902118918917740   整理番号:02A0753011

ホローカソードプラズマ源によるSiOX成膜

SiOX Thin Film Deposition Using a Hollow Cathode Plasma Source.
著者 (3件):
沖本忠雄
(神戸製鋼所)
熊切正
(神戸製鋼所)
玉垣浩
(神戸製鋼所)

資料名:
R&D神戸製鋼技報  (R&D/神戸製鋼技報)

巻: 52  号:ページ: 27-30  発行年: 2002年09月01日 
JST資料番号: F0164A  ISSN: 0373-8868  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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