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文献
J-GLOBAL ID：200902118918917740
整理番号：02A0753011
ホローカソードプラズマ源によるSiOX成膜
SiOX Thin Film Deposition Using a Hollow Cathode Plasma Source.
沖本忠雄
(神戸製鋼所)
,
熊切正
(神戸製鋼所)
,
玉垣浩
(神戸製鋼所)
資料名：
R&D神戸製鋼技報
(R&D/神戸製鋼技報)
巻： 52 号： 2 ページ： 27-30 発行年： 2002年09月01日
JST資料番号： F0164A ISSN： 0373-8868 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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