文献
J-GLOBAL ID:200902119036808054
整理番号:98A0057075
非晶質炭化けい素膜のアルゴン援助プラズマ化学蒸着
Argon Assisted Plasma Chemical Vapour Deposition of Amorphous Silicon Carbide Films.
著者 (2件):
PARTHA C
(Indian Assoc. Cultivation of Sci., Calcutta, IND)
,
KUMAR D U
(Indian Assoc. Cultivation of Sci., Calcutta, IND)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
36
号:
11A
ページ:
L1426-L1429
発行年:
1997年11月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)