文献
J-GLOBAL ID:200902119105207084
整理番号:93A0424070
トリエチルほう素を不純物源として用いて高い成長速度で蒸着したa-Si:Hの移動度-寿命積
Mobility-LIfetime Products of a-Si:H Prepared at High Deposition Rate with Triethylboron.
著者 (4件):
BOEHME T
(Technischen Univ. Dresden)
,
KLUGE G
(Technischen Univ. Dresden)
,
KOTTWITZ A
(Technischen Univ. Dresden)
,
BINDEMANN R
(Technischen Univ. Dresden)
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applied Research
(Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻:
136
号:
1
ページ:
171-180
発行年:
1993年03月16日
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
0031-8965
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)