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J-GLOBAL ID：200902119165363956 整理番号：96A1018948

SiOF膜の誘電特性に及ぼすふっ素の効果

Effect of fluorine on dielectric properties of SiOF films.

著者 (2件)：

LEE S

(Honyang Univ., Seoul, KOR)

PARK J-W

(Honyang Univ., Seoul, KOR)

資料名：

Journal of Applied Physics (Journal of Applied Physics)

巻： 80 号： 9 ページ： 5260-5263 発行年： 1996年11月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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