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文献
J-GLOBAL ID：200902119332825959
整理番号：01A0092427
逆Fourier変換畳込みフィルタリングを用いる0.13μmフォトリソグラフィー
0.13μm photolithography using inverse Fourier transform convolution filtering.
ZHOU C
(Inst. Optics and Electronics Chinese Acad. Sci., Chengdu, CAN)
,
LUO X
(Inst. Optics and Electronics Chinese Acad. Sci., Chengdu, CAN)
,
FENG B
(Inst. Optics and Electronics Chinese Acad. Sci., Chengdu, CAN)
資料名：
Optical Engineering
(Optical Engineering)
巻： 39 号： 11 ページ： 2943-2946 発行年： 2000年11月
JST資料番号： B0577B ISSN： 0091-3286 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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