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文献
J-GLOBAL ID：200902119594064169
整理番号：98A0861458
サブクォーターミクロン配線用の高信頼性で自己平坦化性のある低k金属間誘電体
A Highly Reliable Self-planarizing Low-k Intermetal Dielectric for Sub-quarter Micron Interconnects.
MATSUURA M
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
TOTTORI I
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
GOTO K
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
MAEKAWA K
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
MASHIKO Y
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
HIRAYAMA M
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名：
Technical Digest. International Electron Devices Meeting
(Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻： 1997 ページ： 785-788 発行年： 1997年
JST資料番号： C0829B ISSN： 0163-1918 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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