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文献
J-GLOBAL ID：200902119651189585
整理番号：97A1002517
eビームリソグラフィーに対するシリコン投影のマスク作製技術
Silicon Projection Mask Making Technology for E-Beam Lithography.
AMEMIYA I
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
OHHASHI K
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
YASUMATSU S
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
MATSUI S
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
NAGAREKAWA O
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3096 ページ： 251-259 発行年： 1997年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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