文献
J-GLOBAL ID:200902119653878680
整理番号:93A0781512
Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Al and CuAl Alloy Films in a Vertical, High-Speed, Rotating Disk Reactor.
著者 (6件):
TOMPA G S
(EMCORE Corp., NJ)
,
WOLAK E
(EMCORE Corp., NJ)
,
STALL R A
(EMCORE Corp., NJ)
,
GEORGE M A
(Air Products and Chemicals Inc., PA)
,
LIPPITT M
(Harris Corp., FL)
,
NORMAN J A T
(Schumacher, CA)
資料名:
Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3
(Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3)
ページ:
323-328
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19930443
ISBN:
1-55899-177-8
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)