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文献
J-GLOBAL ID：200902119723382407
整理番号：98A0804190
アクティブマトリックス液晶ディスプレイにおけるゲート及びソースライン作製用のヒロックなしの純アルミニウムスパッタ蒸着のための構造工学
Structure engineering for hillock-free pure aluminum sputter deposition for gate and source line fabrication in active-matrix liquid crystal displays.
VOUTSAS A T
(Sharp Microelectronics Technol., Inc., Washington)
,
HIBINO Y
(Sharp Microelectronics Technol., Inc., Washington)
,
PETHE R
(Applied Komatsu Technol., Inc., California)
,
DEMARAY E
(Applied Komatsu Technol., Inc., California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 16 号： 4 ページ： 2668-2677 発行年： 1998年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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