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文献
J-GLOBAL ID：200902119757487399
整理番号：98A0042607
キセノンエキシマランプを用いたシリコンの低温光酸化
Low temperature photo-oxidation of silicon using a xenon excimer lamp.
ZHANG J-Y
(Univ. Coll. London, London, GBR)
,
BOYD I W
(Univ. Coll. London, London, GBR)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 71 号： 20 ページ： 2964-2966 発行年： 1997年11月17日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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