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文献
J-GLOBAL ID：200902119767909402
整理番号：96A0033797
マイクロ波電子サイクロトロン共鳴励起O2プラズマ中でのSiの低温酸化
Low-temperature oxidation of Si in a microwave electron cyclotron resonance excited O2 plasma.
MARTINET C
(France T<span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>com-CNET, Meylan, FRA)
,
DEVINE R A B
(France T<span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>com-CNET, Meylan, FRA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 67 号： 23 ページ： 3500-3502 発行年： 1995年12月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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