文献
J-GLOBAL ID:200902119866942284
整理番号:99A0772548
テトラフルオロエチレン/ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ共重合とその気相のその場Fourier変換赤外分光
Plasma Copolymerization of Tetrafluoroethylene/Hexamethyldisiloxane and In Situ Fourier Taansform Infrared Spectroscopy of Its Gas Phase.
著者 (5件):
SHIRAFUJI T
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
MIYAZAKI Y
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
NAKAGAMI Y
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
HAYASHI Y
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
NISHINO S
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
7B
ページ:
4520-4526
発行年:
1999年07月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)