文献
J-GLOBAL ID:200902120014634301
整理番号:99A0800186
深紫外線レジストの反応性イオンエッチングの研究
Reactive Ion Etch Studies of DUV Resists.
著者 (3件):
KWONG R
(IBM Microelectronics Div., N.Y.)
,
MOREAU W
(IBM Microelectronics Div., N.Y.)
,
YAN W
(IBM Microelectronics Div., N.Y.)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
3678
号:
Pt.2
ページ:
1209-1214
発行年:
1999年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)