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文献
J-GLOBAL ID：200902120051478921
整理番号：94A0657304
蒸着の際のイオン衝撃による優先的結晶配向性を持つ薄膜の成長
Growth of thin films with preferential crystallographic orientation by ion bombardment during deposition.
ENSINGER W
(Univ. Heidelberg, Heidelberg, DEU)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 65 号： 1/3 ページ： 90-105 発行年： 1994年07月
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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