文献
J-GLOBAL ID:200902120124523017
整理番号:01A0835857
LaNiO3バッファ層を有するSi上に有機金属化学蒸着したPb(Zr,Ti)O3(25nm~100nm)薄膜の電気的特性における厚みの影響
Effects of thickness on the electrical properties of metalorganic chemical vapor deposited Pb(Zr,Ti)O3 (25-100 nm) thin films on LaNiO3 buffered Si.
著者 (5件):
LIN C H
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
,
FRIDDLE P A
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
,
MA C H
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
,
DAGA A
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
,
CHEN H
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
90
号:
3
ページ:
1509-1515
発行年:
2001年08月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)