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文献
J-GLOBAL ID：200902120125398550
整理番号：93A0381159
プラズマCVD法によるTiCN膜コーティング 1
TiCN Thin Film coating by Plasma CVD Process (1).
松田福久
(大阪大 溶接工研)
,
中田一博
(大阪大 溶接工研)
,
品田学
(リケン)
,
玉本圭司
(日本電子工業)
資料名：
溶接学会全国大会講演概要
(Preprints of the National Meeting of J.W.S.)
号： 52 ページ： 212-213 発行年： 1993年03月
JST資料番号： F0641A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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