文献
J-GLOBAL ID:200902120266423281
整理番号:94A0042903
直流マグネトロン源を用いた持続自己スパッタリング
Sustained self-sputtering using a direct current magnetron source.
著者 (2件):
POSADOWSKI W M
(Technical Univ. Wroclaw, Wroclaw, POL)
,
RADZIMSKI Z J
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
11
号:
6
ページ:
2980-2984
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)