文献
J-GLOBAL ID:200902120579075900
整理番号:93A0605527
深いサブミクロン素子に対する分離技術
Isolation Technologies for Deep-Submicron Devices.
著者 (5件):
PARK T
(Samsung Electronics Co., Kyungki-Do, KOR)
,
AHN D H
(Samsung Electronics Co., Kyungki-Do, KOR)
,
KO J H
(Samsung Electronics Co., Kyungki-Do, KOR)
,
AHN S J
(Samsung Electronics Co., Kyungki-Do, KOR)
,
AHN S T
(Samsung Electronics Co., Kyungki-Do, KOR)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
93
号:
115(SDM93 32-42)
ページ:
37-42
発行年:
1993年06月24日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)