文献
J-GLOBAL ID:200902120646414110
整理番号:93A0844523
Determine submicron process window volume with simulator tools.
著者 (5件):
DUSA M V
(Technical Instrument Co., CA)
,
KARKLIN L
(Silvaco International, CA)
,
GOLDMANN M
(Silvaco International, CA)
,
GOUIN W
(Shipley Co. Inc., CA)
,
MIRTH G
(Shipley Co. Inc., CA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1927
号:
Pt 2
ページ:
655-665
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)