文献
J-GLOBAL ID:200902120789981580
整理番号:02A0661917
種々の作業圧力で成長させたスパッタ堆積酸化ニッケル膜の微細構造とエレクトロクロミック特性
Microstructural and electrochromic properties of sputter-deposited Ni oxide films grown at different working pressures.
著者 (3件):
AHN K-S
(Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
,
NAH Y-C
(Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
,
SUNG Y-E
(Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
92
号:
3
ページ:
1268-1273
発行年:
2002年08月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)