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文献
J-GLOBAL ID：200902121091097820
整理番号：99A0999510
プラズマ支援スパッタリングによるPb(Zr,Ti)O3薄膜の作製
Preparation of Pb(Zr, Ti)O3 Thin Films by Plasma-Assisted Sputtering.
HIOKI T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
AKIYAMA M
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
UEDA T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
ONOZUKA Y
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
SUZUKI K
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 9B ページ： 5375-5377 発行年： 1999年09月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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