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文献
J-GLOBAL ID：200902121107410400
整理番号：99A0373257
ポリメタクリル酸メチル及びその同族体の185nm光によるアブレーション的光劣化
Ablative photodegradation of poly(methyl methacrylate) and its homologues by 185-nm light.
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
YAMAMOTO T
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Polymer Degradation and Stability
(Polymer Degradation and Stability)
巻： 63 号： 3 ページ： 481-487 発行年： 1999年03月
JST資料番号： E0404B ISSN： 0141-3910 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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