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文献
J-GLOBAL ID：200902121180685654
整理番号：00A0765366
Process Dependence of Inversion Layer Mobility in 4H-SiC Devices.
ALOK D
(Philips Electronics North America Corp., NY, USA)
,
ARNOLD E
(Philips Electronics North America Corp., NY, USA)
,
EGLOFF R
(Philips Electronics North America Corp., NY, USA)
資料名：
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻： 338/342 号： Pt.2 ページ： 1077-1080 発行年： 2000年
JST資料番号： D0716B ISSN： 0255-5476 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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