文献
J-GLOBAL ID:200902121437842535
整理番号:93A0520116
UV-照射によるポリトリメチルシリルプロピン膜のO2/N2の選択性の改良および副快適温度操作によるさらなる増加
O2/N2 Selectivity improvement for polytrimethylsilylpropyne membranes by UV-irradiation and further enhancement by subambient temperature operation.
著者 (4件):
HSU K K
(Air Products and Chemicals, Inc., PA, USA)
,
NATARAJ S
(Air Products and Chemicals, Inc., PA, USA)
,
THOROGOOD R M
(Air Products and Chemicals, Inc., PA, USA)
,
PURI P S
(Air Products and Chemicals, Inc., PA, USA)
資料名:
Journal of Membrane Science
(Journal of Membrane Science)
巻:
79
号:
1
ページ:
1-10
発行年:
1993年04月26日
JST資料番号:
E0669A
ISSN:
0376-7388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)