文献
J-GLOBAL ID:200902121437977538
整理番号:95A0574927
二元ターゲットのマグネトロンスパッタリングで蒸着したV1-xWxO2膜の転移温度とxの関係
Relationship between Transition Temperature and x in V1-xWxO2 Films Deposited by Dual-Target Magnetron Sputtering.
著者 (2件):
JIN P
(National Industrial Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN)
,
TANEMURA S
(National Industrial Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
34
号:
5A
ページ:
2459-2460
発行年:
1995年05月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)