文献
J-GLOBAL ID:200902121447945804
整理番号:94A0385035
レーザ融解薄膜シリコンのパターン形成に対する結晶異方性の影響
The effect of crystalline anisotropy on pattern formation in laser-melted thin silicon films.
著者 (3件):
BRUSH L N
(Univ. Washington, Washington, USA)
,
MCFADDEN G B
(National Inst. Standards and Technology, Maryland, USA)
,
CORIELL S R
(National Inst. Standards and Technology, Maryland, USA)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
137
号:
3/4
ページ:
355-374
発行年:
1994年04月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)