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文献
J-GLOBAL ID:200902121597108943   整理番号:03A0088495

小エネルギプラズマ強化CVD蒸着のグレーデッドバッファ層を用いたヘテロエピタキシャルGe-on-Siによるギガヘルツ光検出器の製作とモデリング

Fabrication and Modeling of Gigahertz Photodetectors in Heteroepitaxial Ge-on-Si Using a Graded Buffer Layer Deposited by Low Energy Plasma Enhanced CVD.
著者 (9件):
JONES R E
(Motorola, TX, USA)
THOMAS S G
(Motorola, AZ, USA)
BHARATAN S
(Motorola, AZ, USA)
ROSENBLAD C
(Unaxis Balzers Ltd., LIE)
RAMM J
(Unaxis Balzers Ltd., LIE)
ISELLA G
(ETH Zuerich, Zuerich, CHE)
VON KAENEL H
(ETH Zuerich, Zuerich, CHE)
OH J
(Univ. Texas, TX, USA)
CAMPBELL J C
(Univ. Texas, TX, USA)

資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting  (Technical Digest. International Electron Devices Meeting)

巻: 2002  ページ: 793-796  発行年: 2002年 
JST資料番号: C0829B  ISSN: 0163-1918  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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