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文献
J-GLOBAL ID：200902121611812578
整理番号：98A0077319
H終端したSi(001)表面上のSi原子の吸着と拡散 H移動度によるSiマイグレーションの促進
Adsorption and Diffusion of Si Atoms on the H-Terminated Si(001) Surface: Si Migration Assisted by H Mobility.
NARA J
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
SASAKI T
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
OHNO T
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
資料名：
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻： 79 号： 22 ページ： 4421-4424 発行年： 1997年12月01日
JST資料番号： H0070A ISSN： 0031-9007 CODEN： PRLTAO 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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