文献
J-GLOBAL ID:200902121647707690
整理番号:93A0223233
低エネルギーイオン衝撃により誘起されたSiO2の表面粗さと滑らかさ
Low energy ion bombardment induced roughening and smoothing of SiO2 surfaces.
著者 (2件):
CHASON E
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
MAYER T M
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
62
号:
4
ページ:
363-365
発行年:
1993年01月25日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)