文献
J-GLOBAL ID:200902121691095030
整理番号:93A0424300
ArFエキシマレーザ化学蒸着による酸化タンタル膜の蒸着
Deposition of tantalum oxide films by ArF excimer laser chemical vapour deposition.
著者 (3件):
NISHIMURA Y
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TOKUNAGA K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TSUJI M
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
226
号:
1
ページ:
144-148
発行年:
1993年04月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)