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文献
J-GLOBAL ID：200902121767717788
整理番号：00A0535739
電子ビーム蒸着によりSi(100)上に250°Cで堆積させた酸化チタン膜
Titanium oxide films on Si(100) deposited by electron-beam evaporation at 250°C.
JANG H K
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
WHANGBO S W
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
KIM H B
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
IM K Y
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
LEE Y S
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
LYO I W
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
KIM G
(Myongji Univ., Yongin, KOR)
,
LEE H-S
(Pohang Univ. Sci. Technol., Pohang, KOR)
,
LEE J M
(Pohang Univ. Sci. Technol., Pohang, KOR)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 18 号： 3 ページ： 917-921 発行年： 2000年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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