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文献
J-GLOBAL ID：200902121802925135
整理番号：95A0910799
RFマグネトロンスパッタによるルチルTiO2膜の作製
Preparation of Rutile TiO2 Films by RF Magnetron Sputtering.
OKIMURA K
(Fukui National coll. Technol., Fukui, JPN)
,
SHIBATA A
(Fukui National coll. Technol., Fukui, JPN)
,
MAEDA N
(Fukui National coll. Technol., Fukui, JPN)
,
TACHIBANA K
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
NOGUCHI Y
(Kuramo Denko Co., Ltd., Fukui, JPN)
,
TSUCHIDA K
(Fukui Industrial Technical Center, Fukui, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 34 号： 9A ページ： 4950-4955 発行年： 1995年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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