文献
J-GLOBAL ID:200902121931987627
整理番号:95A0406778
アレーンスルホニル,イミドイル及びジイミドイルハライド並びにアミドのN-トリフルオロメタンスルホニル誘導体の電子衝撃下におけるフラグメンテーション機構
The fragmentation mechanism under electron impact of N-trifluoromethylsulfonyl derivatives of arenesulfonyl, imidoyl and di-imidoyl halides and amides.
著者 (3件):
KRAJNIKOVA I G
(Inst. Organic Chemistry, Ukrainian Acad. Sci., Kiev, SUN)
,
YAGUPOLSKII L M
(Inst. Organic Chemistry, Ukrainian Acad. Sci., Kiev, SUN)
,
GARLYAUSKAITE R YU
(Inst. Organic Chemistry, Ukrainian Acad. Sci., Kiev, SUN)
資料名:
Journal of Fluorine Chemistry
(Journal of Fluorine Chemistry)
巻:
71
号:
1
ページ:
13-19
発行年:
1995年03月
JST資料番号:
B0438C
ISSN:
0022-1139
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)