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文献
J-GLOBAL ID：200902121940237983
整理番号：97A0262617
安定な大ビーム電流を使う新しいEB系によるナノ製作
Nanofabrication with a Novel EB System with a Large and Stable Beam Current.
YOSHIMURA T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
OHTA H
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
YAMAMOTO J
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
UCHINO S
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
GOTOH Y
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
TERASAWA T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 35 号： 12B ページ： 6421-6425 発行年： 1996年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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