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文献
J-GLOBAL ID：200902122089940630
整理番号：01A0552205
非晶質窒化炭素膜の誘電特性への水素と酸素プラズマ処理による影響
The effect of hydrogen- and oxygen-plasma treatments on dielectric properties of amorphous carbon nitride films.
AONO M
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
NARUSE Y
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
NITTA S
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
,
KATSUNO T
(Gifu Univ., Gifu, JPN)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 10 号： 3/7 ページ： 1147-1151 発行年： 2001年03月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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