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文献
J-GLOBAL ID：200902122267297983
整理番号：94A0825530
極紫外リソグラフィーにおけるレジストパターンゆらぎの限界
Resist pattern fluctuation limits in extreme-ultraviolet lithography.
SCHECKLER E W
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
OGAWA T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
YAMANASHI H
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
SOGA T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
ITO M
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 12 号： 4 ページ： 2361-2371 発行年： 1994年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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