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文献
J-GLOBAL ID：200902122327403028
整理番号：02A0616914
157nmリソグラフィー用のレジスト材料の設計
The Design of Resist Materials for 157nm Lithography.
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
TRINQUE B C
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
OSBORN B P
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
CHAMBERS C R
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
HSIEH Y-T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
CHIBA T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
ZIMMERMAN P
(International SEMATECH, TX)
,
MILLER D
(International SEMATECH, TX)
,
CONLEY W
(International SEMATECH, TX)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 4 ページ： 583-590 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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