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文献
J-GLOBAL ID：200902122832218049
整理番号：99A0246523
負の電子親和力に対する化学蒸着の六方晶窒化ほう素薄膜の表面条件
Surface conditioning of chemical vapor deposited hexagonal boron nitride film for negative electron affinity.
LOH K P
(Japan Sci. and Technol. Corp.(JST), Ibaraki, JPN)
,
SAKAGUCHI I
(Japan Sci. and Technol. Corp.(JST), Ibaraki, JPN)
,
GAMO M N
(Japan Sci. and Technol. Corp.(JST), Ibaraki, JPN)
,
TAGAWA S
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SUGINO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ANDO T
(Japan Sci. and Technol. Corp.(JST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 74 号： 1 ページ： 28-30 発行年： 1999年01月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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