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文献
J-GLOBAL ID:200902122842338077   整理番号:02A0266356

格子不整合AlmGa1-mN/GaN HEMTの2-DEGシート電荷密度および電流電圧特性に及ぼすAlmGa1-mN層の応力緩和の影響

Impact of strain relaxation of AlmGa1-mN layer on 2-DEG sheet charge density and current voltage characteristics of lattice mismatched AlmGa1-mN/GaN HEMTs.
著者 (4件):
RASHMI
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
KRANTI A
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
HALDAR S
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
GUPTA R S
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)

資料名:
Microelectronics Journal  (Microelectronics Journal)

巻: 33  号:ページ: 205-212  発行年: 2002年03月 
JST資料番号: A0186A  ISSN: 0026-2692  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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