文献
J-GLOBAL ID:200902122842338077
整理番号:02A0266356
格子不整合AlmGa1-mN/GaN HEMTの2-DEGシート電荷密度および電流電圧特性に及ぼすAlmGa1-mN層の応力緩和の影響
Impact of strain relaxation of AlmGa1-mN layer on 2-DEG sheet charge density and current voltage characteristics of lattice mismatched AlmGa1-mN/GaN HEMTs.
著者 (4件):
RASHMI
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
,
KRANTI A
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
,
HALDAR S
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
,
GUPTA R S
(Univ. Delhi South Campus, New Delhi, IND)
資料名:
Microelectronics Journal
(Microelectronics Journal)
巻:
33
号:
3
ページ:
205-212
発行年:
2002年03月
JST資料番号:
A0186A
ISSN:
0026-2692
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)