文献
J-GLOBAL ID:200902123135963409
整理番号:00A0710585
GeとSiの酸化物の熱分解経路 明瞭な相違の観測
Thermal decomposition pathway of Ge and Si oxides: observation of a distinct difference.
著者 (4件):
PRABHAKARAN K
(NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN)
,
MAEDA F
(NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN)
,
WATANABE Y
(NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN)
,
OGINO T
(NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
369
号:
1/2
ページ:
289-292
発行年:
2000年07月03日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)