文献
J-GLOBAL ID:200902123137271350
整理番号:01A0711437
反応性イオンめっきによって形成したTi-O薄膜の酸素添加過程
Oxygenation Process of Ti-O Films Formed by Reactive Ion Plating.
著者 (4件):
OUMI K
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
,
KASHIWAGI K
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
,
KOKAI H
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
,
MURAYAMA Y
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
40
号:
5A
ページ:
L468-L470
発行年:
2001年05月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)