文献
J-GLOBAL ID:200902123179827251
整理番号:02A0245223
部分tert-Boc-保護カリックス[4]レゾルシナーレンと光酸発生剤に基づいたポジ型アルカリ現像フォトレジスト
A positive-working alkaline developable photoresist based on partially tert-Boc-protected calix[4]rcsorcinarene and a photoacid generator.
著者 (5件):
YOUNG-GIL K
(Korea Advanced Inst. Sci. & Technol., Taejon, KOR)
,
KIM J B
(Korea Advanced Inst. Sci. & Technol., Taejon, KOR)
,
FUJIGAYA T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SHIBASAKI Y
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
UEDA M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Materials Chemistry
(Journal of Materials Chemistry)
巻:
12
号:
1
ページ:
53-57
発行年:
2002年01月
JST資料番号:
W0204A
ISSN:
0959-9428
CODEN:
JMACEP
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)